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報告書

JT-60Uにおけるプラズマパラメータ分布解析

白井 浩; 清水 勝宏; 林 伸彦; 板倉 洋文*; 高瀬 計三*

JAERI-Data/Code 2000-040, 214 Pages, 2001/01

JAERI-Data-Code-2000-040.pdf:7.89MB

JT-60Uプラズマにおける測定データを磁気面量として分布データに処理し解析する方法をまとめた。MHD平衡計算・登録ソフトFBEQUにおいて得られたMHD平衡は、データベースとしてショットごとに保存される。JT-60Uのポロイダル断面上の異なる幾何学的配置で計測される多数のプラズマ実験データは、実験データ時間断面モニターソフトSLICEにより、MHD平衡磁気面上にマッピングされ、体積平均小半径$$rho$$の関数に加工される。SLICEでマッピングされたデータは、フィッティングされた後、分布データベースファイルMAP-DBに保存される。さらに、SLICEはMHD平衡と自己無撞着なプラズマ電流解析コードACCOME、粒子軌道追跡モンテカルロ・コードOFMC、トカマクプラズマ予測解析コードシステムTOPICSの実行用データTOKRDを作成する。

報告書

実験データ時間断面モニターソフトSLICEの概要と利用手引

白井 浩; 平山 俊雄; 清水 勝宏; 谷 啓二; 安積 正史; 平井 健一郎*; 今野 智司*; 高瀬 計三*

JAERI-M 93-026, 97 Pages, 1993/02

JAERI-M-93-026.pdf:2.77MB

JT-60UおよびJFT-2Mの、異なる幾何学的配置で計測される多数のプラズマ実験データを磁気面関数にマッピングし、体積平均半径$$rho$$の関数に加工するソフト「SLICE」を開発した。実験データは「SLICE」を用いる事により、統合的に扱うことができる。「SLICE」はその豊富なコマンドにより、マッピングされたデータの加工が容易であり、線積分量として計測される物理パラメーターをアーベル変換処理する機能も併せ持っている。「SLICE」でマッピングされたデータは、フィッティングされた後データベースに保存すると共に、データベースからデータを読み込み、再表示・再加工することができる。さらに「SLICE」は粒子軌道追跡モンテカルロ・コード「OFMC」や、トカマクプラズマ予測解析コードシステム「TOPICS」の実行データを作成することができる。

論文

Identification of small point defect clusters by high resolution electron microscopy

西田 雄彦; 出井 数彦

Point Defects and Defect Interactions in Metals, p.705 - 707, 1982/00

アルミニウム金属結晶中における、小さな点欠陥クラスタ(格子間原子ループや空孔ループ、ボイドなど)の多波格子像が、マルチ・スライス理論により、種々の結像条件のもとで計算された。その解析結果から、これらの欠陥の微細構造同定に関する情報は、高い加速電圧(500KV)でのschezer焦点外れ条件の像で、多く得られることが明らかになった。

報告書

簡略モデルによる垂直2次元炉心耐震解析

伊与久 達夫; 幾島 毅

JAERI-M 9075, 32 Pages, 1980/09

JAERI-M-9075.pdf:0.88MB

本報告書は、多目的高温ガス実験炉炉心を垂直面できった垂直2次元振動特性に関するものである。特に、炉心要素である1コラムのブロック数を縮約した簡略モデル解析の有効性を述べたものである。得られた結論は次の通りである。(1)詳細モデル解析より得られた応答値は実験値とよく一致している。(2)8ブロックモデルの応答値は詳細モデルのそれとかなりよく一致している。(3)8ブロックモデルの計算所要時間は詳細モデルの約半分となる。(4)炉心垂直面で振動特性はほぼ左右対称である。

論文

Electron optical conditions for the formation of structure images of silicon oriented in (110)

西田 雄彦

Japanese Journal of Applied Physics, 19(5), p.799 - 806, 1980/00

 被引用回数:3 パーセンタイル:20.69(Physics, Applied)

多重スライス理論による電子顕微鏡像の計算に基いて(110)面上のシリコン結晶の高分解能構造像解析を行った。パラメータとして、結晶の厚さ,焦点外れ,対物レンズの絞りの大きさ,色収差や結晶方位の微小な傾き角を考慮し、像形成のための条件を検討した。その結果、最適像を得るには結晶の最適な厚さが存在し、又そこでは、最適な焦点外れ領域が周期的に現われることが分った。更に色収差や結晶の傾きの影響に対する許容範囲を検討した。

論文

Crystal structure images of silicon at some elevated voltages

西田 雄彦; 出井 数彦; 古野 茂実; 大津 仁; 桑原 茂也*

Proc.5th Int.Conf.on High Voltage Electron Microscopy, p.301 - 304, 1977/08

近年、結晶格子の電顕による直接観察がいくつか報告されているが、我々のグループでも昨年シリコン結晶の高分解能の格子像の撮影に成功した。この報告では、マルチスライス近似によって、$$<$$110$$>$$方向入射の場合の高分解能シリコン格子像を得る最適条件を検討する。サーベイ計算は結晶の厚さ、対物レンズの絞り、焦点外れについて行われ、観察像(100KV)と比較された。更により高いエネルギー(500,1000KV)の場合の最適な観察条件について議論する。

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